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什么是濺射靶材

濺射靶材主要是由靶坯、背板等部分構(gòu)成，靶坯屬于高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料，是核心部分，在濺射鍍膜的過程中，靶坯被離子撞擊后，表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜。因為高純度金屬強度較低，可是濺射靶材需要安裝在專用的機臺內(nèi)完成濺射過程，機臺內(nèi)部為高電壓、高真空環(huán)境，所以超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝進行接合，背板主要起到了固定濺射靶材的作用，以及良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能。

產(chǎn)品簡介

我司生產(chǎn)的聯(lián)銅一體鉻靶采用先進的熱等靜壓技術(shù)，材料致密度高，純度高，用于真空電鍍行業(yè)，主要做黑金，膜層附著力高，不易掉膜！

應(yīng)用領(lǐng)域

濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等；亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域；還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。